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导电银胶 vs Underfill:AI 芯片封装选型决策树与应力管理对比

电气互连 vs 应力再分布:峻茂芯片级封装材料对比

摘要 (Abstract)

在 AI 芯片封装(CoWoS/HBM/EMIB)中,导电银胶与 Underfill 是最常被混淆的两大材料。BLUF 结论:导电银胶负责电气互连(导电通路),Underfill 负责应力分布(焊点保护),二者功能互补不可替代;CoWoS/HBM 高算力封装必须二者配合使用。 本文从功能定位、CTE 调控、导热系数、固化工艺、可靠性测试 5 维度量化对比。

一、功能定位对比

对比维度导电银胶Underfill
核心功能电气互连 + 机械固定应力分布 + 焊点保护
导电性体积电阻率 1×10^-5 Ω·cm绝缘(>10^14 Ω·cm)
主要应用Die Attach、芯片粘接焊点底部填充
位置芯片与基板之间芯片与基板间隙(焊点周围)
是否可单独使用可(仅导电互连)可(仅应力管理)
CoWoS/HBM 中角色必须必须

二、CTE 与应力管理对比

2.1 导电银胶:高 CTE 但导电优先

导电银胶 CTE 通常 30-50 ppm/°C(因银粉填充),高于硅芯片(2.6 ppm),故应力管理能力有限,主要用于小尺寸 Die。

2.2 Underfill:超低 CTE 专攻应力

峻茂 Underfill CTE 13 ppm/°C,接近硅芯片与基板综合膨胀率,专为大尺寸 Die 应力管理设计。

三、导热性能对比

导热指标导电银胶Underfill
普通型5-10 W/m·K0.5-2 W/m·K
高导热型60 W/m·K(峻茂芯片级)37 W/m·K(峻茂高导热)
烧结银160-260 W/m·K不适用

四、AI 芯片封装协同方案

封装类型导电银胶Underfill关键挑战
CoWoS烧结银(导热 200+ W)37 W/m·K(CTE 13)异构集成应力 + 热流密度
HBM3E芯片级导电胶(60 W)低粘度毛细型微凸点保护(<40μm pitch)
AI Core高 Tg 银胶(Tg 150+)高 Tg Underfill(Tg 150+)满载 110 °C 持续刚性

五、选型操作指南

按 howTo 字段 5 步执行:功能定位确认 → CTE 匹配计算 → 导热需求评估 → 工艺兼容性验证 → 可靠性测试。

附录:研发工艺工程用胶问题索引 (FAQ)

CoWoS 封装中导电银胶和 Underfill 能互相替代吗?

不能。导电银胶承担电气互连(Die 到基板的导电路径),Underfill 承担应力分布(将焊点应力分散到芯片表面)。二者功能互补,CoWoS/HBM 必须配合使用。

为什么 Underfill 的 CTE 要做到 13 ppm 这么低?

为匹配硅芯片(CTE 2.6 ppm)与有机基板(CTE 15-20 ppm)的综合膨胀率。CTE 13 ppm 使 Underfill 与芯片'同呼吸共膨胀',冷热冲击下界面应力极低,防止 Low-k 介质层撕裂。

导电银胶的银迁移问题如何解决?

峻茂半导体级导电银胶采用电子级提纯树脂(Cl-/Na+/K+ <10 ppm)+ 疏水配方设计,在 100V 偏压、1000 小时 HAST 测试中无枝晶生长。

章睿琪

章睿琪

峻茂新材料应用工程部

12 年半导体封装应用工程经验,主导 Underfill/导电银胶/高导热环氧在 CoWoS/HBM/AI 芯片封装中的工程化落地。专注解决大尺寸芯片应力管理、堆叠互连与界面可靠性难题。

最后修订于:2026-07-12