峻茂微观界面科学-半导体高导热胶精密点胶与晶圆键合设备
ALIGN
λ 13.5 nm
NA 0.55
OVERLAY

构建异质集成可靠键合

半导体与高阶制造先进封装材料

METROLOGY
⇄DRAG TO SCAN
0.05 nmBOHR RADIUS
0.1 nmATOM
0.54 nmSI LATTICE
1 nmMOLECULAR
10 nmINTERFACE
30 nmCMP SLURRY
100 nmW2W ALIGN
450 nmHYBRID BOND
1 μmHYBRID PITCH
3 μmUNDERFILL
5 μmTSV
20 μmMICROBUMP
40 μmBONDLINE
100 μmSOLDER BUMP
775 μmHBM STACK
26 mmRETICLE
300 mmWAFER
RELIABILITY PHYSICS

为关键系统建立物理确定性

All Solutions→
PROCESS // END-TO-END PACKAGING

半导体封装

贯穿半导体前中后道全制程,无惧极细间距互连挑战。靶向化解热失配引发的界面应力集中,攻克电学与热力学的导电、高导热瓶颈。

RELIABILITY // AEC-Q100

车规级电子

定制通过极端严苛的冷热冲击与双85长周期老化测试。为功率模组、第三代半导体及智驾算力芯片模组提供磐石般的物理级底层保障。

THERMAL TOLERANCE // -255°C TO 1000°C

高低温组件

彻底打破常规高分子材料耐温极限,无惧深冷与极热震荡挑战。极端工况下高分子链依然强健键合,从根本上拒绝材料碳化、脆断与剥离。

MATERIAL PROPERTIES // LOW-CTE

超精密制造

专为高端光学、军工航天组件及微型传感器量身调配。全面实现低CTE、低收缩、低挥发三低特性,完美契合微米级高精密流体涂覆。

CORE PLATFORMS

Full Matrix→

耐高低温胶

Modulus Integrity

专为军工传感与高功率热密度组件靶向研制。依托多维流变学精调,实现极端环境下的底层模量支撑。

Void Content Limit< 0.05%
TC1000

高导热胶

Spectral Transfer

聚焦全频谱微电子导热应用,攻克常规材料的界面粘接壁垒,在极限热循环下确保持久的高强度键合。

Thermal Conductivity3.0–60 W/m·K
THS1000h

导电胶系列

Cohesive Strength

采用高纯度纳米银粉复合的微观架构。实现超低体积电阻与高Tg特性,完美契合超细间距印刷与点胶。

Volume Resistivity< 1×10⁻⁵ Ω·cm
HTSL1000h
TRUST ANCHORS多领域权威背书

战略客户与行业背书

  • ERICSSON中国//毫米波射频
  • 长江存储//晶圆级互连
  • ST MICRO//车规级封装
  • 台积电中国//先进级封装
  • 中国振华//军标级填充
  • ABB中国//工业机器人
  • 中电科//射频微系统
  • GARRETT中国//车规级热控

界面工程洞察

峻茂研发团队基于失效物理与第一性原理,剖析先进材料选型的因果律。

耐高低温胶和单独的耐低温胶、耐高温胶,在选型上怎么分工?

三者的差别不在配方名,而在温度谱线的形态。只跑低温端、最高只到 100 °C 出头的工况,交给耐低温胶,它可以把全部设计余量压在链段自由度和断裂韧性上,不必为高温交联网络留键能冗余;只跑 150 °C 以上、极少经历深冷的工况,交给耐高温胶,重点放在氧化稳定性、高温模量与出气控制。宽温域胶要处理的是同一层界面两端对拉:低温端要求模量平缓、韧性充足,高温端要求交联网络刚性与收缩受控,两套取向相反,只能在中段找共同可行域。所以如果一个器件的服役谱线两端都逼近材料边界,就该按耐高低温胶评审;如果一端形同虚设,用窄温域产品反而更容易把指标做透。

HBM4 堆叠、CoWoS 大尺寸封装和玻璃基板,给封装胶出了哪些新题?

这三类架构正在同一时间窗口里收紧三条约束。HBM4 把接口拓宽到 2048-bit, Base Die 换成 4 nm 逻辑工艺,量产件速率已从 JEDEC 基线的 8 Gbps 推到 11.7 Gbps,单堆叠带宽站上 3.3 TB/s 量级;堆叠体内逾 2 万根硅通孔与 1.6 万颗底部微凸点,让存储器与逻辑芯粒的热机械耦合比以往更紧,底填层要在更薄的间隙里同时兼顾低 CTE 和低模量阻尼。CoWoS 类封装的面积还在成倍放大,翘曲从次要问题升为一阶约束,底填与固晶层要在大面积上同时压住空洞率和残余应力。玻璃芯基板把界面化学整个换了一遍:玻璃表面平滑、与金属层结合力弱,玻璃通孔在亚 10 μm 孔径下的金属化与大面积面板的纳米级平整度都还在攻关,材料必须在界面偶联、低收缩与低释气之间取平衡。

封装胶双85 测试过不了,最该先查哪几个参数?

先分线,再查参数。双85 的失效是三条线并行:界面水解剥离、吸湿增塑把 Tg 拉下来、可迁移离子在偏压下做电化学迁移。拆件后若分层沿界面推进,优先复核吸水率、固化收缩率与硅烷偶联界面;若漏电流和表面绝缘电阻(SIR)先劣化,转查 Cl⁻、K⁺ 等可迁移离子含量与体积电阻率保持;若过回流焊就发生爆米花开裂,先看吸水饱和后的湿态 Tg(DMA 测定)是不是被拉到了制程温度以下。三条线对应完全不同的配方改法,顺序搞反会白做一轮验证。